拓荊科技股份有限公司主要從事半導體專用設備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和技術(shù)服務。公司聚焦的半導體薄膜沉積設備與光刻機、刻蝕機共同構(gòu)成芯片制造三大主設備。主要產(chǎn)品包括等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）設備、原子層沉積（ALD）設備和次常壓化學氣相沉積（SACVD）設備三個產(chǎn)品系列，已廣泛應用于國內(nèi)晶圓廠14nm及以上制程集成電路制造產(chǎn)線，并已展開10nm及以下制程產(chǎn)品驗證測試。

公司通過在薄膜沉積設備這一半導體核心設備細分領(lǐng)域的積累和快速發(fā)展，已經(jīng)成為國內(nèi)半導體設備行業(yè)的企業(yè)，三次獲得中國半導體行業(yè)協(xié)會頒發(fā)的“中國半導體設備五強企業(yè)"稱號。公司設備以優(yōu)異的薄膜性能、具有競爭力的生產(chǎn)成本、高效的售后服務，贏得了廣泛的市場空間。目前，公司已形成覆蓋二十余種工藝型號的薄膜沉積設備，滿足下游客戶晶圓制造產(chǎn)線多種薄膜沉積工藝需求，公司產(chǎn)品已廣泛用于中芯國際、華虹集團、長江存儲、長鑫存儲等國內(nèi)主流晶圓廠產(chǎn)線。